Asml kuria naujas euv mašinas būsimiems 7nm + ir 5nm mazgams

Už tokių gamintojų kaip TSMC, „GlobalFoundries“, „Samsung“ ir „ Intel“ yra tokių kompanijų kaip ASML, kurios savo mašinomis ir technologijomis padeda gaminti moderniausius lustus. Šiandien atrodo, kad ASML veikia naujas 410W EUV aparatas, kuris bus naudojamas masiniam CPU ir GPU gamybai, esant 7 nm ir mažesnėms.

ASML gamina EUV (Extreme UltraViolet) aparatus, kurie bus labai svarbūs būsimiems 7nm +, 5nm ir mažesniems mazgams

Artėja 7 nm ir tai yra svarbus šuolis, turintis įtakos procesorių ir grafikos plokščių našumui, be kitų segmentų, tačiau silicio gamintojai nori ir toliau tobulinti mazgų gamybos procesą. TSMC jau planuoja įdiegti EUV (Extreme UltraViolet) technologiją kituose 7nm + mazguose, kurie padės pagerinti gamybos elementus ir pagerinti tankį, kai bus daugiau tranzistorių.

Čia EUV mašinos yra svarbios ir kritiškos. Šiandien ASML mašinos gali tiekti 250W šviesos, tačiau didesnės galios mašinos reikalingos norint sukurti EUV silicį (lustus) greičiau. Šių mašinų šaltinio galia rodo fotonų, kurie gali būti veikiami siliciu per tam tikrą laiką, skaičių, o tai reiškia, kad didesnės galios įrenginiai galės greičiau baigti savo darbus su silicio plokštele, įsibėgėdami. gamyba.

„Spektras“ pranešė, kad ASML įsigijo mašiną, kurios laboratorijose veikia 410 W galios EUV energijos šaltinis, ir tai yra potenciali bendrovės naujos kartos EUV mašinų bazė. Šiuo metu jūsų 410W mašina dar negali gaminti lustų, nors tai tikrai yra svarbus šios technologijos žingsnis, kuris padės pagrindiniams silicio gamintojams pagerinti jų gamybą.

EUV technologija vaidins daug didesnį vaidmenį būsimuose 5 nm ar mažesniuose proceso mazguose, kur jie bus kritiški.